UV光解净化设备体系装置及运转条件

UV光解净化设备体系装置及运转条件

 

 　　UV光解净化设备适用于轿车及机械制造业、涂装线及烘房有机废气处理；电子制造业、印刷线路板（PCB）有机废气处理；电气制造业、漆包线***缘有机废气处理；轻工业、制鞋涂胶有机废气处理；印刷彩印有机废气处理。

　　光解净化设备设备***要运用***制的高能高臭氧UV紫外线光束照耀废气，使有机或无机高分子恶臭化合物的分子链在高能紫外线的光束的照耀下降解转变成低分子化合物。运用高能高臭氧UV紫外线光束分化空气中的氧分子及水分子发生游离氧（活性氧）和OH自在基，因游离氧和所携正负电子不平衡，所以需与氧分子结合，从而发生臭氧。UV光氧废气处理设备的催化处理作用是非常***的，将催化基质和光触媒技能充沛的运用起来，光触媒技能经过催化基质的固定和处理之后，纳米级光触媒超微粒子承受紫外线照耀时，其外表吸附的氧和水分被激活，发生活性极强的羟基自在。众所周知臭氧对有机物具有极强的氧化作用，对工业废 气及其它刺激性异味有马到成功的铲除作用。

　　uv光解设备一般装置在通风状况比较***的场所，在有天然光源的状况下进行运用才干够让设备内部的催化剂能够与天然光源中的紫外线进行触摸，生成具有氧化作用的臭氧物质，这样关于有机废气能够到达比较抱负的氧化处理作用。光催化设备的***要应用技能便是咱们常说的光触媒技能。

　　UV光解净化设备体系装置及运转条件

　　1.高能紫外线灯管发射的高能紫外线发生的光子所具有的能量有必要***于恶臭气体分子的分子键结合能，才干将恶臭气体分子裂解。

　　2.混合气体中需求有满足的含氧量，才干发生满足的游离态氧和臭氧与裂解后的恶臭气体分子基团结合发生无污染的低分子化合物。

　　3.需操控***光解的进气条件，包含温度、湿度、粉尘及气体黏性物质的含量、pH等，方可确保较高的高净化功率。